真空氣氛管式爐整體采用一體化機箱設計，雙層殼體，中空風冷系統；冷軋鋼板殼體噴涂耐高溫漆面；1800型氧化鋁纖維爐膛；加熱元件采用1800型硅鉬棒；控制系統采用50段智能程控儀表；全程限流式功率調整器；大容量高品質變壓器助推大電流輸出；不銹鋼KF法蘭雙級密封；配置高真空針型閥、真空表、進出氣接頭；適用于真空環境、氣氛保護環境下的樣品高溫處理。

1400度單溫區管式爐采用一體式結構，爐膛采用氧化鋁纖維材料制成，等直徑硅碳棒加熱，耐高溫剛玉爐管，兩端配置不銹鋼真空法蘭；法蘭采用KF快接法蘭，進出料更方便；智能程控控溫儀表控溫精度高；雙層機殼設計，中空風冷系統確保外殼溫度不高.

單溫區滑桿式PECVD系統由滑竿式真空管式爐、石英真空室、射頻電源、供氣系統、抽氣系統、真空測量系統組成。單溫區滑竿式PECVD系統相對于CVD系統增加了等離子發生器

CVD是化學氣相沉積的英文簡寫，本公司生產的單溫區CVD管式爐系統是利用管式爐加熱，把構成固態沉積物的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入爐管內，在爐管內使氣態或蒸汽狀態的化學物質在氣相或氣固界面上經化學反應形成固態沉積物的技術。

1200℃單溫區轉動管式爐（管徑25mm）,又稱為旋轉式管式真空氣氛爐、旋轉式管式氣氛爐等，微型化設計，特別適用于小批量樣品的使用，空間占用少，是高校、科研院所、工礦企業做電池正負極材料燒結、催化劑氫氣還原、粉體和顆粒料翻轉燒結的理想產品。 RSK2-2.5-12DZ轉動管式爐設計溫度1200℃，石英爐管、中間粗兩端細，內置物料撥齒方便翻動物料。